旋轉圓盤(pán)電極

旋轉圓盤(pán)電極Rotating Disk Eleetrode,簡(jiǎn)稱(chēng)RDE,RDE只有一個(gè)圓盤(pán),它是一種流體動(dòng)力學(xué)技術(shù)。需要配合旋轉圓盤(pán)圓環(huán)/電極/裝置（MSR/ASR）使用。 圓盤(pán)電極只有一盤(pán),環(huán)盤(pán)電極則在圓盤(pán)外圍設置一個(gè)圓環(huán)，盤(pán)與環(huán)之間只有很小的間隙，圓盤(pán)或環(huán)盤(pán)圍繞中心軸旋轉，轉速由一個(gè)旋轉系統調節和測量。在電化學(xué)技術(shù)中,用來(lái)測電極和電解質(zhì)溶液相對運動(dòng)，稱(chēng)流體動(dòng)力學(xué)技術(shù)。 

    旋轉圓盤(pán)電極通常使用金、鉑金和玻碳作為材料，也有特別研究會(huì )使用到石墨等特種材料，或要求使用高溫的旋轉圓盤(pán)電極。廣泛用于化學(xué)電源、電鍍、金屬腐蝕等應用領(lǐng)域和電化學(xué)技術(shù)研究上。利用旋轉圓環(huán)圓盤(pán)電極可以檢測出電極反應產(chǎn)物特別是中間產(chǎn)物的存在形式與生成量，或圓環(huán)電極上捕集到的盤(pán)電極反應產(chǎn)物的穩定性等，利用這些測量可以探測一些復雜電極反應的機理和獲取更多的電極過(guò)程信息。因此在現代電化學(xué)測量中是常用的測試手段。電鍍添加劑的作用機理的探討或添加劑性能的比較，都可以用到這種電極來(lái)進(jìn)行測試。 

   在測量時(shí)電極浸入測量溶液不宜太深，一般以2～3mm為宜。電極的轉速要適當，太慢時(shí)自然對流起主要作用，太快時(shí)則會(huì )出現湍流，不能得到有效參數。要求在旋轉過(guò)程中保證電極表面出現層流狀態(tài)。的極限擴散電流密度公式，由V.G.Levich(前蘇聯(lián))于1942年提出，Levich方程如下，極限擴散電流iL是研究電化學(xué)動(dòng)力學(xué)的重要參數。如果在不同轉速條件下測得iL值，作iL-ω1/2圖，可求出D；用標準溶液標定后可測反應物種的濃度，常用于定量分析。